產(chǎn)品用途：
結合光學顯微鏡與白光干涉儀功能的掃描式白光干涉顯微鏡，結合顯微物鏡與干涉儀、不需要復雜光調整程序，兼顧體積小、納米分辨率、易學易用等優(yōu)點，可提供垂直掃描高度達400um的微三維測量，適合各種材料與微組件表面特征和微尺寸檢測。應用領域包含：玻璃鏡片、鍍膜表面、晶圓、光碟/影碟、精密微機電元件、平面液晶顯示器、高密度線路印刷電路板、IC封裝、材料分析與微表面研究等。
產(chǎn)品特點:
● 納米深度3D檢測
● 高速、無接觸量
● 表面形狀、粗糙度分析
● 非透明、透明材質皆適用
● 非電子束、非雷射的安全量測
● 低維護成本
專業(yè)級的3D圖形處理與分析軟體（Post Topo）：
● 提供多功能又具友好界面的3D圖形處理與分析
● 提供自動表面平整化處理功能
● 提供高階標準片的軟件自校功能
● 深度、高度分析功能提供線性分析與區(qū)域分析等兩種方式
● 線性分析方式提供直接追溯ISO定義的表面粗糙度（Roughness）與起伏度
● （waviness）的測量分析。可提供多達17種的ISO量測參數(shù)與4種額外量測數(shù)據(jù)（Wafer）
● 區(qū)域分析方式提供圖形分析與統(tǒng)計分析
● 具有平滑化、銳化與數(shù)字過濾波等多種二維快速利葉轉換（FFT）處理功能
● 量測分析結果以BMP等多種圖形檔案格式輸出或是Excel文本文件格式輸出
高速精密的干涉解析軟件(ImgScan)：
● 系統(tǒng)硬件搭配ImgScan前處理軟件自動解析白光干涉條紋
● 垂直高度可達0.1nm
● 高速的分析算法則，讓你不在苦候測量結果
● 垂直掃描范圍的設定輕松又容易
● 有10X、20X、50X倍率的物鏡可供選擇
● 平臺X、Y、Z位置數(shù)字式顯示，使檢測目標尋找快速又便利
● 具有手動/自動光強度調整功能以取得很好的的干涉條紋對比
● 具有高精度的PVSI與高速VSI掃描測量模式供選擇
● 具有專利的解析算法則可處理半透明物體的3D形貌 專利號：第11577927號
● 具有自動補點功能
● 可自行設定掃描方向
技術規(guī)格參數(shù)：
| 型號 | AE-100M | ||
| 移動臺(mm) | 平臺尺寸100*100 ，行程13*13 | ||
| 物鏡放大倍率 | 10X | 20X | 50X |
| 觀察與量測范圍(mm) | 0.43*0.32 | 0.21*0.16 | 0.088*0.066 |
| 光學分辨力(μm) | 0.92 | 0.69 | 0.5 |
| 收光角度(Degrees) | 17 | 23 | 33 |
| 工作距離 | 7.4 | 4.7 | 3.4 |
| 傳感器分辨率 | 640*480像素 | ||
| 機臺重量(kg)/載重kg | 20kg/小于1kg | ||
| Z軸移動范圍 | 45mm , 手動細調;可訂制150mm | ||
| Z軸位置數(shù)字顯示器 | 分辨力1μm | ||
| 傾斜調整平臺 | 雙軸/手動調整 | ||
| 高度測量 | |||
| 測量范圍 | 100(μm)(400μm ,選配) | ||
| 量測分辨力 | 0.1nm | ||
| 重復精度 | ≤ 0.1％ (量測高度:>10μm) | ||
| ≤10nm(量測高度1μm 10μm) | |||
| ≤ 5nm(量測高度:<1μm ) | |||
| 量測控制 | 自動 | ||
| 掃描速度(μm/s) | 12(最高) | ||
| 光源 | |||
| 光源類型 | 儀器用鹵素（冷）光源 | ||
| 平均使用壽命 | 1000小時100W 500小時（150W） | ||
| 光強度調整 | 自動/手動 | ||
| 數(shù)據(jù)處理與顯示用計算機 | |||
| 中央處理運算屏幕 | 雙核心以上CPU | ||
| 影像與數(shù)據(jù)顯示屏幕 | 21" 雙晶屏幕 | ||
| 操作系統(tǒng) | Win7 | ||
| 電源與環(huán)境要求 | AC100 --240 V 50-60Hz | ||
| 環(huán)境振動 | VC-C等級以上 | ||
| 測量分析軟件 | |||
| 量測軟件ImgScan | ImgScan測量軟件：具VSI/ PVSI/PSI 測量模式（PSI量測模式需另選配PSI模塊搭配） | ||
| 分析軟件PosTopo |
ISO 粗燥度/階高分析，快速傳利葉轉換和濾波，多樣的2D和3D 觀測視角圖，外形/面積/體積分析，圖像縮放、標準影像文件格式轉換 報表輸出，程序教導測量等。 |
||